SU-8光刻胶是由C、H、O、N等元素组成的有机物。等离子去胶工艺采用的刻蚀气体是O2/CF4混合气体。随着温度的升高，被激活的氧等离子与有机物发生化学反应，破坏了光刻胶中较稳定的化学成分。同时，F的自由基化学活性很高，在电离过程中不断地与光刻胶中H发生化学反应而生成氟化氢（HF），促进了O2与有机物反应，生成的气态物质最终被清洗气体（N2）通过抽压方式排出。...
2022-09-14
高分子材料的等离子体表面处理通常采用辉光放电低温等离子体,由相互作用引起的表面原子层的变化不超过几个原子层,因而不会破坏或改变材料的体相性质。...
2022-09-11
在正常情况下，硅基光学元件和CF4和SF6等刻蚀气体是很难进行反应的。而将刻蚀气体通过自由基等离子体源电离产生自由基等离子体，含有的大量自由基反应活性十分强，可以破坏硅基光学材料的化学键，从而发生了反应并且与之结合产生挥发性物质SiF4，达到刻蚀目的。...
2022-09-10
除了以上水滴角测试，达因值测试，拉力值测试几种简单评价评估等离子清洗机清洗效果的方式，其他还可以通过傅立叶红外光谱测试表面成分，原子力显微镜测试表面形貌结构与粗糙度，还可以通过场发射扫描电子显微镜（ FE-SEM ）研究等离子清洗对表面形貌的影响，还可以通过百格测试检测表面张力是否达标。...
2022-09-09
在半导体行业等离子清洗机已广泛应用于表面清洗及活化，以提高表面的粘结性，能为后继的芯片粘接、导线连接或塑料封装工艺做准备。等离子污染物清除和表面活化技术改善了表面性质，从而提高了半导体封装工艺的可靠性和产量。...
2022-09-08
低温等离子体处理丁腈橡胶材料，可以使其表面活化，引入极性基团，改善其表面亲水性，从而提高其表面的粘接强度。这主要与改性处理后羟基(C-OH) 、羧基( -COOH) 等亲水性含氧官能团含量的增加有关。...
2022-09-08
CF4（四氟化碳）在等离子清洗工艺中主要有两个作用，一个是用来刻蚀，能对更种有机表面实现刻蚀，如光刻胶去除。另一个能使被等离子处理材料表面变得疏水。 ...
2022-09-07
通过对PCB焊盘（Pads&Lands)的（plasma）等离子清洗处理，能清洁表面的有机物和氧化物，有利于提高SMT焊接品质并降低金手指的接触电阻。...
2022-09-07
今后双面COF挠性基板的孔径会达到50µm甚至更小，孔的厚径比就会很大，溶液很难进入孔内，这种情况下可以优先考虑使用等离子清洗。等离子清洗工序简单、绿色环保、效率高、能深入微细孔眼和凹陷内部、真空度容易实现、应用范围广、可以改善材料表面性能。...
2022-09-07
磁控溅射镀膜设备利用溅射方法，实现快速 和低温薄膜生长，与热蒸发和电弧镀相比，磁控溅 射沉积薄膜过程稳定、 控制方便、 靶材设计性强， 易获得大面积均匀薄膜；同时，磁控溅射成膜的离 子能量高于热蒸发、 低于电弧镀，易获得附着力 强、致密度高 、内应力小的薄膜 。...
2022-09-06
等离子体处理可以有效增加碳纤维表面的粗糙度、极性以及浸润性，且不损伤纤维的拉伸强度。等离子体处理碳纤维能有效改善碳纤维和树脂基之间的粘接强度，并且环保、节能，适合工业化应用。...
2022-09-06
通过对汽车门板进行plasma等离子清洗能够有效地清除汽车门板因污染而残留的杂质从而在门板后序加工中门板与蒙皮更有效的粘合提高其门板粘合的可靠性。...
2022-09-05
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