低温等离子体处理技术具有工艺简单、操作方便、加工速度快、处理效果稳定、环境污染小、处理产品种类广泛以及处理气体的可选择性强等优势，可用于多种塑胶制品的印刷前表面处理研究,包括异型产品的处理。...
2022-11-21
在现代集成电路制造中，干法等离子去胶工艺加氟（如CF4等）可有效地提高去除光刻胶的能力，特别是在离子注入之后的去胶工艺，含氟气体产生的氟离子可以防止光刻胶硬化。...
2022-11-21
等离子表面活化工艺不会对晶圆（wafer）表面造成任何损伤，也不会使清洗表面出现再次污染，更不会有反应产物污染环境，并且高精度的时间控制使活化效果更显著。...
2022-11-21
等离子表面活化是现在比较常用的一种干法活化方法，能对物体表面实现超洁净清洗，去除表面的有机物污染和氧化物，在圆片表面引入所需基团，增强其键合能力。...
2022-11-18
等离子体可以处理各种形状的材料，其处理时间短、效率高。利用等离子处理材料表面，可以提升表面的粗糙度和亲水性，间接对提高涂层与基材的附着力有很大帮助。 ...
2022-11-17
等离子体改性主要是在玻璃纤维表面引入极性官能团，提高了玻璃纤维与树脂基体之间的浸润程度；同时在纤维表面发生刻蚀作用，增大比表面积，增强二者界面间的粘结力。...
2022-11-16
蒸馏水通过等离子体放电区域后产生等离子活化水,其中含有各种带电粒子,自由基,活性氧等活性成分,能破坏微生物的脂质、蛋白质、DNA等,从而具有杀菌效果。利用这一特性,低温等离子体技术被逐渐运用到食品保鲜领域,取得了良好的防腐保鲜效果,成为有潜力的绿色环保保鲜技术。 ...
2022-11-16
氧等离子体去胶工艺，即是利用氧等离子体中的高反应活性的单原子氧极易与光刻胶中的碳氢氧高分子化合物发生聚合物反应，从而生成易挥发性的反应物，最终达到去除光刻胶层的目的。这个工艺，通常又被称灰化工艺（PRAshing）。...
2022-11-16
水平式等离子清洗机：在平行板电极两端施加13.56M的高频功率，通入工作气体，在该频率的持续激励下，产生等离子体，因平行电极板结构与电容器类似，故这种在平行电极两端产生的等离子体的等离子清洗设备被称之为水平式等离子清洗机。...
2022-11-14
采用Ar和H2的混合气体对引线框架表面进行等离子清洗，可以有效去除表面的杂质沾污、氧化层等，从而提高银原子和铜原子活性，大幅提高焊线与引线框架的结合强度，提高产品良率。...
2022-11-14
所谓起辉，指的是气体原子的核外电子受到激发后跃迁至高能级，并在弛豫的过程中生成光量子，产生辉光的现象。不同气体通入等离子清洗机中所产生的辉光颜色不尽相同，例如氩气的辉光为深红色，氦气的辉光为紫红色而氮气辉光为橙红色，这通常是由气体分子本身能带差异所决定的。...
2022-11-14
等离子体清洗可以有效的清除单晶硅表面残留的抛光杂质。使用氧等离子体清洗预处理单晶硅表面有利于后续离子束抛光过程，可以在一定程度上改善了单晶硅的表面粗糙度和抑制表面光热弱吸收水平的恶化。...
2022-11-11
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