等离子清洗机与极紫外（UV）清洗机的区别与联系

文章出处：等离子清洗机厂家 | 深圳纳恩科技有限公司| 发表时间：2022-07-12

等离子清洗技术

等离子体清洗技术是采用气体作为清洗介质，由于没有使用液体清洗介质，故不会带来二次污染。等离子体清洗设备在工作时真空清洗腔中的等离子体轻柔冲刷待清洗表面，在很短的时间内就可以把污染物彻底的清洗掉，同时使用真空泵把污染物抽走，该种方法的清洗程度可以达到分子级的。等离子技术在工件表面的清洗去污、表面喷涂、表面改性、刻蚀等领域广泛应用。

典型的等离子物理清洗工艺是氩气等离子清洗，氩气本身是惰性气体，等离子体的氩气不和表面发生反应，而是通过离子轰击使表面清洁。典型的等离子化学清洗工艺是氧气等离子清洗，通过等离子体产生的氧自由基非常活泼，容易与碳氢化合物发生反应，产生二氧化碳、一氧化碳和水等易挥发物，从而去除表面的污染物。

紫外光清洗技术

紫外光清洗技术是利用紫外光发出的特种波长的光子能量，对物体表面吸附的有机物（碳氢化合物）发生光敏氧化作用，达到去除粘附在物体表面上的碳氢化合物。经过光清洗的物体表面洁净度能达到一般清洗方法难以达到的原子级清洁度。如果在光敏氧化过程中，被清洗物体表面具有光催化作用，不仅能加快紫外光清洗的过程，而且清洗的效果更为彻底。

清洗时由大功率高强度的紫外光光源发出两个特定波长的光子能量作用于被清洗物体表面，由于粘附在物体表面的污染物大多为有机物，大多数的有机物对短波紫外线有较强的吸收能力，有机物分子在吸收了短波紫外线后分解成离子、游离态原子、受激分子和中性分子。真空紫外线可使空气中的氧气电离产生臭氧和原子氧，臭氧对短波紫外线同样具有强烈的吸收作用，在短波紫外线光子能量的作用下，臭氧又分解为氧气和原子氧，原子氧是极为活泼的，在它的作用下，物体表面的有机污染物很快氧化成二氧化碳和水，在一定的温度下，两者都可以从物体表面挥发掉，起到清洁物体表面的作用。

紫外光清洗技术的应用范围十分广泛，例如：各种材料（ITO玻璃、光学玻璃、铬板、掩膜版、抛光石英晶体、硅）晶片和带有氧化膜的金属等的精密清洗处理；清除石蜡、松香、油脂、人体体油以及残余的光刻胶、聚酰亚胺和环氧树脂；高精度印制电路板焊接前的清洗和残余焊剂去除，以及敷铜箔层压板的表面清洁和氧化层生成；超高真空密封技术和热压焊接前的表面清洁处理以及各种微型元件的清洗等。

等离子清洗机与紫外清洗机的区别与联系（以ITO玻璃清洗为例）

等离子清洗机可以在真空状态下形成等离子体，可以对ITO/玻璃基底进行物理轰击和化学反应双重作用，使基底表面物质变成粒子和气态物质，经过抽真空排出，而达到清洗的目的，它可以达到常规清洗方法无法达到的效果，不仅可以去除有机污染物、油污或油脂，还能够改变ITO的功函数，改善材料表面的浸润能力，有利于后续的传输层溶液的涂覆。

在LCD行业中,清洗是指清除吸附在玻璃表面的各种有害杂质或油污的工艺,没有经过紫外光清洗的氧化铟锡(ITO)玻璃基片,在俄歇电子能谱分析曲线上会看到有明显的碳峰,表明有碳氢化合物存在。而经过紫外光清洗的ITO玻璃的俄歇电子能谱分析曲线上的碳峰消失了,表明ITO玻璃表面已经没有残存的碳氢化合物,达到了原子清洁度。

总的来看两种清洗方式都能去除ITO表面的有机物，但是等离子清洗机相较于紫外清洗机，不仅能去除ITO玻璃表面有机物杂质，还有利于提高ITO表面的功函数和改善表面亲水性。

综上所述：紫外清洗机和等离子清洗机都能有效去除材料表面的有机污染物，但是等离子清洗机在清洗完材料表面的有机污染物的同时，还能改变材料的某些性能，如亲水性等。在ITO玻璃清洗方面，完全可以用等离子清洗机来替代紫外清洗机。