等离子清洗机清洗不均匀有哪些可能原因

文章出处：等离子清洗机厂家 | 深圳纳恩科技有限公司| 发表时间：2022-05-26

随着技术水平的不断更新迭代，以及各生产厂家对产品洁净度要求的不断提高，清洗工艺逐步由湿法向干法转变。干法清洗通过气体形成的等离子体在工件表面发生作用，不需要经化学试剂浸泡，也不用烘干，过程更加洁净安全。清洗过程也方便控制，工作环境及人员安全明显改善，在成本有效减少的同时，产品成品率及优品率也得到很大提高，目前已成为各半导体产品领域广泛应用的技术。随着等离子清洗技术的大量运用，等离子清洗机在清洗时有时也会出现清洗不均匀的现象，下面就让我们一起来看下有哪些因素影响等离子清洗均匀性。

电极间距对等离子清洗均匀性的影响

电极的布局对等离子清洗的速度和均匀性有较大影响，较小的电极间距能够将等离子体限制在狭小的区域从而获得较高密度的等离子体，实现较快速度的清洗。随着间距的增加清洗速度逐渐下降但均匀性逐渐增强。

圆孔极板可提高等离子体清洗的均勾性

出现上述现象的原因：一方面是由于大量等离子体通过圆孔极板到达极板下方形成下游等离子体，这使得等离子体的放电区域增加，从而降低了单位体积内等离子体的吸收功率密度；另一方面，分布在极板上的圆孔改变了等离子体内部的电场分布，使得等离子体内部电场分布更加均匆。而等离子体的内部电场对等离子体的均匀性有非常重要的作用、因此，提高等离子体内部电场的均勾性，有利于于提高等离子体的均匀性。

极板数量对等离子清洗均匀性的影响

在放电功率不变的情况下，增加极板的数量可提高等离子体的均勾性，但降低等离子体的电子温度、电子密度和电子能量密度。因此，多对放电极板不仅提高等离子体的均勾性，还成倍的增加了基片的装载量，可大大提高产能，尤其适用于实际生产中，具有广泛的应用前景。

功率对等离子清洗均匀性的影响

高功率只能获得低均勾性的等离子体。这主要是由于±加等离子体的放电功率，等离子体在极板边缘附近产生了更强的自感电场，使得等离子体内部电场变得更不均匆，从而降低了等离子体的均匀性。

气体流向对等离子清洗均匀性的影响

工艺气体流向决定工艺气体在清洗仓体中的整个气流覆盖区域，进而决定离子体具体位置，对待清洗工件清洗效果有根本性的影响。在设计时，合理控制仓体中的气体流向就对清洗效果显得尤为重要，进出气口的多少、位置直接决定了仓体内的气体流向，也直接影响了待清洗工件的清洗效果。

在等离子清洗的过程中，有效地控制仓体内部工艺气体的流向，让气体均匀地充满整个仓体，在射频电源的激发下，形成的离子体也在仓体内部均匀分部，对待清洗工件的清洗均匀性及优良性有大幅度改善。拿半导体料盒清洗来说，应该让料盒的排布顺应气体的流向，让气体均匀流通在料盒的各个位置，有利于获得封装组装工艺的高质量控制。

以上就是国产等离子清洗机厂家纳恩科技，关于等离子清洗不均匀有哪些可能原因的简单介绍，对提高等离子清洗均匀性提供了一定的改进方向。提高等离子清洗均匀性的最佳方法是减小电场的边缘效应。圆孔极板可获得均匀性最高的等离子体，但同时会降低等离子体的电子温度、电子密度和电子能量密度；增加放电极板数量，可提高等离子体的均勾性和基片产能，但降低了等离子体的电子温度、电子密度和电子能量密度；增加极板间距，可增加等离子体的均匀性。另一方面，放电参数对等离子体的影响结果也进一步证实了，等离子体的内部电场分布影响着等离子体的均勾性。髙功率可产生较强的边缘效应，使得等离子体的均匀性较低，但等离子体的电子密度和电子能量密度较高；气压对等离子体的内部电场影响较小，对等离子体均匀性影响较小，随着气压的增加，电子温度、电子密度和电子密度先增加后降低。