等离子体的产生依赖于等离子体电源的高压激励，同时也离不开等离子体发生器载体。根据气体放电类型的不同，工业应用中常见的等离子体表面处理发生器有：电晕发生器、介质阻挡发生器、射流发生器和滑动弧发生器。...
2022-09-19
在天然乳胶表面处理过程中，经过等离子体处理的材料引入了亲水基团-COOH、-OH，增加了材料的亲水性能，同时引入含氮和氧的含量，增强了胶粒之间的粘合性能，并改善了乳胶膜的力学性能。...
2022-09-16
等离子体处理技术是指通过等离子体中的高能粒子对表面进行轰击，使表面物质降解，增加表面粗糙度，若等离子体中有其他活性粒子，如氧离子，则可与表面物质发生反应而使表面活化的一种方法...
2022-09-16
利用等离子体处理PET薄膜表面，结果表明，经过等离子体表面处理后，PET薄膜表面产生大量极性基团，亲水性明显提高，PET薄膜表面粗糙度增加，粘接性得到提高。...
2022-09-15
经过等离子改性后亲水性极性官能团的数量明显增加，这些基团与水分子相互作用强烈，从而增加了PLA的表面润湿性和表面能，降低了接触角。...
2022-09-14
等离子体处理可以通过将含氧基团和含氮基团引入PVC导管表面的方法,使其表面极性改变,提高表面润湿性,使接触角(水)降低到10°左右。...
2022-09-14
SU-8光刻胶是由C、H、O、N等元素组成的有机物。等离子去胶工艺采用的刻蚀气体是O2/CF4混合气体。随着温度的升高，被激活的氧等离子与有机物发生化学反应，破坏了光刻胶中较稳定的化学成分。同时，F的自由基化学活性很高，在电离过程中不断地与光刻胶中H发生化学反应而生成氟化氢（HF），促进了O2与有机物反应，生成的气态物质最终被清洗气体（N2）通过抽压方式排出。...
2022-09-14
高分子材料的等离子体表面处理通常采用辉光放电低温等离子体,由相互作用引起的表面原子层的变化不超过几个原子层,因而不会破坏或改变材料的体相性质。...
2022-09-11
在正常情况下，硅基光学元件和CF4和SF6等刻蚀气体是很难进行反应的。而将刻蚀气体通过自由基等离子体源电离产生自由基等离子体，含有的大量自由基反应活性十分强，可以破坏硅基光学材料的化学键，从而发生了反应并且与之结合产生挥发性物质SiF4，达到刻蚀目的。...
2022-09-10
除了以上水滴角测试，达因值测试，拉力值测试几种简单评价评估等离子清洗机清洗效果的方式，其他还可以通过傅立叶红外光谱测试表面成分，原子力显微镜测试表面形貌结构与粗糙度，还可以通过场发射扫描电子显微镜（ FE-SEM ）研究等离子清洗对表面形貌的影响，还可以通过百格测试检测表面张力是否达标。...
2022-09-09
在半导体行业等离子清洗机已广泛应用于表面清洗及活化，以提高表面的粘结性，能为后继的芯片粘接、导线连接或塑料封装工艺做准备。等离子污染物清除和表面活化技术改善了表面性质，从而提高了半导体封装工艺的可靠性和产量。...
2022-09-08
低温等离子体处理丁腈橡胶材料，可以使其表面活化，引入极性基团，改善其表面亲水性，从而提高其表面的粘接强度。这主要与改性处理后羟基(C-OH) 、羧基( -COOH) 等亲水性含氧官能团含量的增加有关。...
2022-09-08
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