等离子体去胶机NE-RE08

产品型号：NE-RE08
性能特点：反应离子去胶
产品用途：去胶、灰化、刻蚀、活化

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产品介绍
产品参数

NE-RE08是一款干法等离子体去胶机，适用于4/6/8英寸晶圆光刻胶去除和灰化工艺。设备采用RIE反应离子刻蚀模式，拥有刻蚀速率高，各向异性好，刻蚀选择比高，大面积均匀性好等优势。

等离子体去胶机,其工作原理是将硅片置于真空反应系统中,通入少量氧气,在真空腔内形成强的电磁场,使氧气电离,形成氧离子、活化的氧原子、氧分子和电子等混合物的等离子体,可以迅速地在硅片表面与光刻胶反应,生成CO、CO2、H2O和其它挥发性氧化物,从而实现去胶目的。

等离子去胶有着湿法去胶不可比拟的优点:去胶操作简单、去胶效率高、表面干净光洁、无划痕、成本低、环保无酸废水排放、对环境污染较小等。

主要用途/ Applications：
1、用于8寸及以下的晶圆（SOI、SI、玻璃、铜片等其他半导体材料）正性及负性光刻胶去胶。
2、聚酰亚胺光刻胶（PI）去胶。
3、有机物去除。
4、光刻工艺后，PR Descum 打底膜工艺
5、基片表面等离子活化（02\Ar）

产品特点/ Features：
1、设备采用RIE反应离子刻蚀模式，去胶速率快
2、全面积工艺气体入口喷淋头，径向（轴对称）抽气结构，确保能提升工艺均匀性和速率
3、水冷电极冷却系统实现衬底温度控制，确保光刻胶不会发生变性

型号	NE-RE08
设备外形尺寸	W1100×D1100×H1650(mm)
工作台尺寸	Φ300mm（11.8inch）
有效处理尺寸	Φ280mm（8寸以下兼容）
冷却方式	水冷固定电极
等离子电源	13.56MHz/600W连续调节自动阻抗匹配
气体通道	标准配置2路，最大可配置4路
真空泵	干泵
气体流量控制	0-500SCCM 质量流量计
电源	AC220V50/60Hz

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